跟着电子科技类产品高精度成像的需求，对印制电路板的规划与制造的要求也渐渐变得高。这推动了PCB出产所需的曝光设备的研发。为此研宣布平行光曝光设备是制造密布细线路的要害。文章介绍了平行曝光机作业原理及图形搬运八怪七喇，跟从小编来具体的了解一下吧。
这个类型的设备只要一个灯管，曝光台面也是分有上下方两个镜子，运用的是光线折射的原理。当两个面一同进行曝光的时分，上下灯的曝光是分隔的。上等先进行曝光，一面镜子将光线反射到台面的上方镜子，然后再折射到曝光台面上。下灯曝光时，光线是直接直射到下方的镜子里然后在折射到台面上，因而说运用品德曝光机进行曝光的时分，上灯的能量会比下灯的能量要更大一些，曝光及级数才会相同。
图1是高压水银弧光灯结构图。印刷电路板制程中干膜曝光所需的光源大致而言以近紫外光为主，波长规模为：400 nm ~ 300 nm；紫外光源是以水银弧光灯为主。当电流通过一个内部充溢惰性气体和金属蒸气的玻璃封管时，就会产生弧光。简略的原理为封管内游离电子经电场加快后自身就具有满足的能量，可将被其磕碰的惰性气体（例如氖）使其产生离子化反响。磕碰后，带正电的氖离子往相反电极方向走，再碰到电子时产生相互结合，而成中性。因其之磕碰以及正负结合的能量，使产生一种激起态的氖原子。这种激起态的氖原子寿数较长，可再将激起能移给封管内一起存在的金属蒸气（例如汞原子），使其也被激起。此种激起态汞再以放出光能的办法将能量放出，以回到安靖状况。这便是弧光灯发光的原理。如下反响式：
图2是平行光原理示意图，光源宣布来的光，部份通过聚光器，然后再通过介质性的寒光面镜或双向铝镜，而反射出来；此两种镜面也可当作红外线滤光器双向铝镜，让光源中的红外光透过，其间之热量则被散热座所吸收。剩余的寒光成90折射透过别的一个双凸透镜的组合（一般称为光线整合器Light Integrator），格局红外光被滤走，剩余来简直都是很纯的紫外光，是一种外观为蓝色的光，其波长在320 nm ~ 405 nm之间。然后再抵达另两个反射外表，一般称此为平行光反射镜，变成平行光线反射出来，抵达作业区域上。
感光资料介质，由聚酯片基、光敏抗蚀胶膜和聚乙烯维护膜三层构成。片基是光敏抗蚀剂胶膜的载体，使抗蚀干膜坚持杰出的刚好稳定性，还可维护抗蚀膜不被磨损；光敏抗蚀剂胶膜由具有光敏性抗蚀树脂组成；聚丙烯或聚乙烯薄膜是掩盖在抗蚀胶层另一面的维护层。
紫外光透过图形搬运前言（黑片）与感光资料（干膜）产生光化学反响，使高分子内部或高分子之间的化学结构产生改动，因而导致感光性高分子的物性产生显着的改动，其化学活性较差。未照耀的不产生化学反响，活性不变，产生反响部分化学活性较低，运用这一特性，选用溶解或剥离办法构成导电图形。
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏资料，它遭到光照后特性会产生改动。光刻胶首要用来将光刻掩膜版上的图形搬运到晶圆片上。
光刻胶有正胶和负胶之分。正胶通过曝光后，遭到光照的部分变得简单溶解，通过显影后被溶解，只留下未受光照的部分构成图形而负胶却恰恰相反，通过曝光后，遭到光照的部分会变得不易溶解，通过显影后，留下光照部分构成图形。
负胶在光刻工艺上运用最早，其工艺成本低、产值高，但由于它吸收显影液后会纠率，导致其分辨率（即光刻工艺中所能开诚最小图形》不如正胶，因而关于亚微米乃至更小刚好的加工八怪七喇，首要运用正胶作为光刻胶。