每台High-NA EUV本钱高达3.5亿欧元，英特尔更是全球第一家装置High-NA EUV的首要芯片商。英特尔接下来几年将用它们出产Intel 14A芯片。
抢先竞赛目标运用新制作东西很重要，因能使英特尔开发各种High-NA EUV技能（如光罩玻璃、光罩保护膜、化学品等），终究有几率会成为工业规范。ASML预备据英特尔工程师反应开发Twinscan EXE:5000 High-NA EUV，或许会使英特尔更具竞赛优势。
ASML Twinscan EXE High-NA EUV只需一次曝光就可以完结低至8纳米的分辨率，与一次曝光13.5纳米分辨率一般规范EUV相较，是严重改善。前代一般规范EUV仍可两层曝激光雷达8纳米分辨率，但会拉长出产周期，并影响良率。
与一般规范EUV相较，High-NA EUV将曝光规模缩小一半，需芯片研制人员更改规划。有鉴于High-NA EUV微影体系本钱和特殊性，一切芯片商都选用不一样战略。英特尔成为第一个用户后，对手台积电更慎重。